[口内支抗与微型种植体支抗近中移动下颌磨牙效果比较] 下颌外斜线支抗钉视频

　　[摘要]目的:研究安氏I类错牙合患者中,分别采用微型种植体作支抗与口内前牙作支抗近移下颌磨牙进行比较,以评价两种方法的各自特点。方法:将24例成人患者随机分成两组,分别采用两种方法近移下颌磨牙。测量下颌第二磨牙在移动速度和近远中方向、垂直方向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变,并通过下颌中切牙的位置变化,评价支抗强弱。结果:种植体作支抗组下颌第二磨牙平均近中移动8.5mm,疗程10.4个月,平均移动速度0.82mm/月,磨牙长轴向近中倾斜2.5°,磨牙垂直向压低0.28mm,下颌中切牙位置无改变。对照组下颌第二磨牙平均近中移动7.8mm,疗程10.2个月,平均移动速度0.76mm/月,磨牙长轴向近中倾斜角度7.5°,磨牙垂直向压低0.06mm,下颌中切牙发生舌向倾斜9.5°。下颌中切牙切端向舌侧移动了3.0mm。结论:两种方法比较,种植体的支抗更强,未见前牙支抗丧失。二者磨牙的移动方式有所区别。
　　[关键词]磨牙近中移动;种植体支抗;口内支抗;安氏I类错牙合
　　[中图分类号]R783.5[文献标识码]A [文章编号]1008-6455(2010)02-0251-03
　　
　　Comparison of mesializing mandibular molar by micro implant anchorage and intraoral anchorage
　　GUO Jun,FA Yong-hong,CAI Xing-wei
　　(Department of stomatology,General Hospital of the Second Artillery,Beijing 100088,China)
　　
　　Abstract:ObjectiveTo evaluate characters of micro-implant anchorage and intraoral anchorage during mandibular molars mesialization in Class I malocclusal patients. Methods24 patients were divided into two groups equally. Measuring position changes of mandibular molars from 2 aspects and implant anchorage loss by mandibular central incisor. ResultsIn implant anchorage group: the velocity of mandibular second molar mesializing was 0.82 mm per month, mesial tipping 2.5°, mandibular central incisor do not move.In intraoral anchorage group: the velocity of mandibular second molar mesializing was 0.76 mm per month, mesial tipping 7.5°, mandibular central incisor move bucally 3.0mm. ConclusionTwo methods successfully mesialized maxillary molars to appropriate positions. But implant anchorage is stronger than another. Then move mode of mandibular molar differenciate from each other.
　　Key words:molar mesialization;implant anchorage;intraoral anchorage;angle I malocclusion
　　
　　在临床工作中,经常会遇到下颌第一磨牙缺失,但是下颌第二、第三磨牙均为正常位置而且大小、形态发育良好的病例。这时候正畸医师就会考虑将下颌第二、第三磨牙整体前移,占据下颌第一磨牙缺失的位置[1]。问题的关键是下颌磨牙牙根较多,移动起来相对困难,支抗的选择非常重要。本研究将临床中常用的口内支抗与种植体支抗作一比较,探讨两者的支抗强弱以及各自的作用特点。
　　
　　1材料和方法
　　
　　1.1临床资料:患者24例(男10例,女14例),年龄20～32岁,平均24.8岁。其中9例双侧下颌第一磨牙缺失,15例单侧下颌第一磨牙缺失。将所有患者采用完全随机化的分组方法分成两组,每组12例。具体纳入、排除标准如下:①年龄18～30岁;②双侧或单侧第二磨牙为中性关系;③上下颌牙列正常或轻度拥挤;④下颌第一磨牙单侧或双侧缺失,缺失侧下颌第二、第三磨牙正常萌出;⑤上颌第三磨牙先天缺失或矫治前拔除;⑥侧貌面型基本正常;⑦身体健康,未接受过正畸治疗。
　　1.2 治疗方法:分别采用微型种植体支抗与口内支抗拉下颌磨牙近移。具体分组及临床操作如下。
　　1.2.1第1组(种植体支抗组):所有患者均采用非拔牙矫治(上颌第三磨牙若萌出在则术前予以拔除),常规装配下颌方丝弓矫治器,排齐整平下颌牙列直至0.018"×0.025"不锈钢方丝纳入全部托槽。然后将种植体植入预定部位(下颌第一前磨牙和下颌第二前磨牙之间的颊侧牙槽骨内)。术后口服抗生素3天,复方氯己定含漱液含漱一周,防止感染。2周后复诊,种植体不松,周围组织正常,则开始近移下颌磨牙的治疗。将镍钛螺簧两端分别固定于下颌第二磨牙带环颊侧拉钩与种植体上,拉长6mm,力量约300g,每4周复诊一次。弓丝末端打磨圆钝,并且超出下颌第一磨牙颊面管末端约1.5mm,打弯紧贴于下颌第三磨牙颊面管。
　　1.2.2第2组(对照组):常规装配下颌方丝弓矫治器,排齐整平下颌牙列直至0.018"×0.025"不锈钢方丝纳入全部托槽。从一侧下颌第二前磨牙紧密结扎直至另一侧下颌第二前磨牙,将镍钛螺簧两端分别固定于下颌第二磨牙带环颊侧拉钩与下颌第二前磨牙托槽翼上,拉长约6mm,力量约300g,每4周复诊一次。弓丝末端打磨圆钝,并且超出下颌第一磨牙颊面管末端约1.5mm,打弯紧贴于下颌第三磨牙颊面管。
　　1.3 测量方法:每一位患者治疗前后均拍摄正中颌位头颅定位侧位片,所有X线片均由同一名口腔正畸科医师在一段集中的时间内用硫酸纸描图、定点、测量,并进行计算。
　　1.4 X线片测量项目(如图1)
　　1.4.1测量基准平面(线):①腭平面(Palatine Plane,PP):通过前鼻棘(ANS)与后鼻棘(PNS)连线的水平面;②翼上颌裂平面 (Pterygomaxillary Plane,PFP):通过翼上颌裂点(Ptm点)且垂直于腭平面的平面;③前颅底平面(Basicranial Plane,SN):通过蝶鞍点(S)与鼻根点(N)连线的平面。
　　1.4.2测量项目:①L7-SN角:下颌第二磨牙长轴与SN连线的夹角(前下角),表示下颌第二磨牙的近中倾斜程度;②L7-PFP:测量下颌第二磨牙牙冠中点至翼上颌裂垂线的距离,表示下颌第二磨牙的矢状位置;③L7-PP:测量下颌第二磨牙牙冠中点至PP平面的距离,表示下颌第二磨牙的垂直位置;④L1-SN角:下颌中切牙长轴与SN连线的夹角(前下角),表示下颌中切牙长轴的改变;⑤L1-PFP距:下颌中切牙切缘至PFP平面的垂直距离,表示下颌中切牙的凸度。
　　
　　2结果(见表1)
　　
　　3讨论
　　3.1种植体支抗强弱与稳定性:随着种植体支抗的日益广泛应用,令正畸医师头疼的支抗控制问题,逐步得到了很好的解决[2]。下颌磨牙的近中移动需要强大的支抗支撑,利用传统的支抗控制也可以达到目的。但与微型种植体支抗相比,二者究竟有何区别?本研究初步比较了两种方法的异同。通过研究结果可以看到:种植体确实发挥了强大的支抗作用,下颌中切牙位置没有发生改变;而口内支抗组中,下颌中切牙发生舌向倾斜9.5°。下颌中切牙切端向舌侧移动了3.0mm,支抗丧失比较明显,对后期矫治增加了困难。需要笔者重点考虑的问题是防止种植体的脱落,国内外相关报道微型种植体的脱落率是10%左右[3]。本研究共对12例患者植入了17枚种植体,无一脱落。成功的经验是:①选择合适的病例:成年人骨质密度高,钙化程度好,有利于种植体与骨质结合;②最好采用粘膜下种植方式:将牙龈粘膜切开,分离骨膜后,再将种植体植入;③注意植入的角度,尽量增加种植体与骨质接触面积,增加种植体植入角度[4];④负载力量不要过大。
　　3.2磨牙移动方式:当下颌第一磨牙缺失较长时间时,常常会伴有下颌第二磨牙的近中倾斜[6]。本研究采用的方法是先用Ni-Ti丝排齐整平下颌牙列,使下颌第二磨牙尽量接近于垂直位,必要时在临床中结合不锈钢方丝上的后倾曲来实现下颌磨牙的扶正[7],这样就为下一步的拉磨牙近中移动提供了便利条件。事实上,笔者不愿看到的磨牙近中倾斜移动也是支抗丧失的表现,而微型种植体在其中发挥了很好的支抗作用。通过研究结果可以看出:种植体作支抗组磨牙长轴向近中倾斜角度只有2.5°,对照组磨牙长轴向近中倾斜角度7.5°,二者有明显的统计学差别。说明种植体支抗既避免了磨牙近移导致的前牙舌倾或远中移动,又使磨牙接近于整体移动。利用前牙作支抗则不可避免地在以上两方面都反映出了支抗的丧失,无形之中给后续治疗增加了难度,延长了矫治时间。也有一部分患者由于失去了下颌第一磨牙,相对应的上颌第一磨牙就发生了伸长[8],既破坏了与邻牙正常的邻接关系,又阻挡了下颌第二磨牙的近中移动,我们采取的方法还是利用微型种植体支抗,将其分别植入上颌第一磨牙的颊舌侧来压低磨牙,结果很快就取得了明显的成效。为了使磨牙更接近于整体移动,矫治力的方向应该尽量接近磨牙阻抗中心[9],而且是水平方向,通过选择适当的植入部位和施力方向,可以获得满意的效果。
　　3.3下颌第三磨牙位置:它与下颌第二磨牙关系密切,紧密相联。随着第二磨牙的前移,第三磨牙也会随之前移。要尽可能早地将第三磨牙纳入矫治系统,以利于整体控制,但在拉第二磨牙近移的过程中,不要同时拉第三磨牙,种植体负载过大可能导致其脱落。
　　
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　　[收稿日期]2009-12-02 [修回日期]2010-01-12
　　编辑/何志斌