托槽粘结位置标准 抛光对不同处理方法粘结托槽的瓷表面粗糙度和光泽度的影响

　　[摘要]目的：探讨用不同处理方法在瓷面上粘结的托槽去除后，抛光对瓷表面粗糙度和光泽度的影响。方法：甲乙两组瓷面上的托槽经剪切去除后，用粗糙度仪和光泽度仪测定瓷面抛光前后及对照组的表面粗糙度值和光泽度值。结果：粗糙度值：抛光前相同方法中甲组比乙组均高(P＜0.05)，甲组各方法间无差异(P＞0.05)，乙组方法A、C间无差异(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)：抛光后相同方法甲组与乙组无差异(P＞0.05)，甲、乙组内各方法之间也无差异(P＞0.05)，甲、乙组各方法都达到了对照组水平(P＞0.05)。光泽度值：抛光前相同方法甲组比乙组均低(P＜0.01)，甲组各方法间无差异(P＞0.05)，乙组方法A、C无差异(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)；抛光后相同方法甲组与乙组无差异(P＞0.05)，甲、乙组各方法之间均无差异(P＞0.05)，甲、乙组中无论哪一种方法都低于对照组(P＜0.05)。结论：机械打磨最能影响瓷表面粗糙度和光泽度，2.5％氢氟酸对其有影响，陶瓷偶联剂对其影响较小。光泽度虽随着粗糙度的降低而升高，但粗糙度值与光泽度值之间并无绝对的对应关系。抛光能使托槽去除后瓷表面粗糙度达到对照组水平，但光泽度稍差。
　　[关键词]瓷修复体；托槽；粗糙度；光泽度；抛光
　　正畸结束去除瓷修复体上的托槽后烤瓷冠(桥)能否继续使用的一个重要考虑因素就是瓷表面的粗糙度和光泽度。低粗糙光滑的瓷表面能减少口腔细菌粘附，提高美容效果，使患者舒适。适宜的光泽度能使瓷牙逼真，与正常活髓牙协调一致，不易分辩。本研究采用托槽剪切去除后瓷表面进行抛光，用仪器测量抛光前后的瓷表面粗糙度值和光泽度值，观察其内在变化，并与未作任何处理的对照组对比，为临床工作提供理论依据。
　　
　　1　材料和方法
　　
　　1．1　测试标本：本实验采用美国VB公司的烤瓷合金及Shofu A3瓷粉，将烤瓷片甲组机械打磨，乙组未打磨，两组均分别用3种方法粘结托槽。方法A：氢氟酸＋陶瓷偶联剂＋釉质粘结剂；方法B：陶瓷偶联剂＋釉质粘结剂；方法c：氢氟酸＋釉质粘结剂。具体操作步骤参见相关文献。粘结托槽并经剪切后，去除瓷面上较明显的粘结剂，从每种方法8个试件中选用4个瓷面完整的作为被测对象，使用Shofu公司抛光绿和氧化锡糊剂和Edenta公司抛光套装，低速手机依次进行瓷表面的抛光：①深黑色金钢砂橡皮磨头4000r／min 3分钟；②深黄色橡皮磨头＋抛光绿4000r／min 3分钟：③小毡轮＋氧化锡糊剂2000r／min 3分钟。另制作的4个金属烤瓷片既不粘结托槽也不抛光处理作为对照组。
　　
　　1．2　表面粗糙度和光泽度的测定：对测试组的抛光前后及对照组的瓷面中心区分别测定表面粗糙度和光泽度，每个试件变换方向3次，取均值统计分析，SPSS11.0软件分析结果。用TR240触针表面粗糙度仪(北京时代集团公司)，取样长度0.8ma，评定长度4.0mm，运行速度0.1mm／s，测中心线平均粗糙度值Ra。表面光泽度以吸收入射光的百分比表示，采用VGA600型光泽度仪(日本电色公司)，标准黑板校正89％，入射、反射角度均为60°，测表面光泽度值。
　　
　　2　结果(见表1～2)
　　
　　
　　统计结果：抛光前相同方法中甲组比乙组高(P＜0.05)，甲组各方法相比较无差异(P＞0.05)．乙组各方法相比较，方法A、C无差异(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)。抛光后相同方法甲组与乙组无差异(P＞0.05)，甲乙组内各方法之间均无差异
　　统计结果：抛光前相同方法甲组比乙组均低(P＜0.01)，甲组各方法相比较无差异(P＞0.05)，乙组各方法相比较，方法A、c无差异(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)。抛光后相同方法甲组与乙组无差异(P＞0.05)，甲乙组各方法之间均无差异(P＞0.05)，与对照组比较甲乙组中无论哪一种方法都无法达到对照组的光泽度(P＜0.05)。
　　
　　3　讨论
　　
　　表面粗糙度是物体表面的不规则状况，是衡量物体表面平滑程度的量化指标。根据GBl031－83的要求，表面粗糙度参数主要是从Ra(中心线平均粗糙度)、Ry(最大高度粗糙度)、Rz(十点高度平均粗糙度)这三个参数中选取。由于Ra易使用测量精度高且方法简单的触针式轮廓仪测量，所以常用于表面粗糙度值。光泽度是根据物体表面受到光线照射时会产生反射光的原理进行，以吸收入射光的百分比来表示，对入射光反射能力越大，光泽度则越高。
　　抛光是利用抛光材料反复摩擦修复体表面，使表面凸凹高低相对一致，表面光滑。陶瓷的成分不同，其表面抛光后的结果是不相同的。以白榴石、二硅酸锂等晶体为增强相的硅酸盐类陶瓷经抛光表面粗糙度和光泽度变化较大，而以氧化铝、氧化锆为主要成分的非硅酸盐类陶瓷，强度较高，经抛光表面粗糙度和光泽度变化较小。本实验所用的金属烤瓷片属于前一种，一般抛光常用的磨具为硬度不同的金刚砂橡皮轮(或头)、小毡轮等，磨料为抛光绿、氧化锡等，单纯使用一种一般不能达到较好效果。
　　不同的处理工艺构建成特定的表面微观结构，抛光前相同方法中甲组比乙组的粗糙度高、光泽度低，说明机械打磨对其影响较大，其原因可能是机械打磨后粘结性能强，残留的粘结剂较多。在表面未作机械打磨的乙组的粗糙度、光泽度在抛光前方法A与方法C无差异(P＞0.05)，而方法B与方法A、c间有差异(P＜0.05)，说明氢氟酸对其有影响，陶瓷偶联剂对其影响较小。有学者关于酸蚀时间与陶瓷表面形态的研究实验中，发现陶瓷表面粗糙度与酸蚀时间成正比例的线性相关，本实验的酸蚀时间仅60s，其数值变化不是非常显著也印证了这一点。
　　抛光前后比较无论粗糙度和光泽度甲组比乙组变化显著，说明抛光对粗糙度高，光泽度低的物体是一种行之有效的方法，而对本来粗糙度低，光泽度高的物体则效果较差，甚至会降低其光泽度，从乙组的数值就可看出，这是因为抛光使瓷表层下微小气泡暴露，磨痕出现。
　　抛光后每组的粗糙度能达到或接近对照组的水平，而光泽度仍有一点的差距，说明光泽度虽然随着粗糙度的降低而升高，但粗糙度值与光泽度值之间并无绝对的对应关系。当表面粗糙度值比较高时，光泽度随之变化且变化较大；当表面粗糙度值较低时，其粗糙度值的降低对增加光泽度的影响就非常小了。经过抛光解决了粗糙度问题，但光泽度并不能达到原有的水平。影响光泽度的因素较多，除抛光外还与陶瓷的成分、色线、致密性、硬度、排列方向等有关。本实验是在瓷面干燥的情况下所得的数值，但在口内有唾液的环境下抛光后的光泽度肉眼观是无法发现较大差别的。
　　抛光能否达到上釉同样的光泽度或者说抛光与瓷炉上釉何种方法能达到更光滑的表面(即低粗糙度)目前尚存争议。Fuzzi等研究发现陶瓷抛光能达到与上釉相同的光滑效果，而Patterson[6]和Brewer等发现单独使用金刚砂抛光不能达到，Raimondo等认为，单纯使用抛光套装抛光瓷表面肉眼观不能达到，而结合使用抛光膏则能达到甚至优于上釉，Scurria等的实验也与此相同。在本实验中随着抛光粒度的逐级精细，瓷表面粗糙度值逐步下降，光泽度值逐步升高，提示在临床瓷修复体抛光过程中，要按照抛光粒度由粗到细逐级打磨：打磨粒度越细，表面粗糙度值越低，越能获得更加光滑的表面。但是，当粒度细到一定程度后，表面粗糙度随抛光轮粒度变细所降低的程度已经不太明显。
　　
　　4　结论
　　
　　机械打磨是最能影响瓷表面粗糙度和光泽度的，氢氟酸对其有影响，陶瓷偶联剂对其影响较小。光泽度虽然随着粗糙度的降低而升高，但粗糙度值与光泽度值之间并无绝对的对应关系。抛光能使托槽去除后，瓷表面粗糙度达到对照组水平，光泽度稍差。提示在对口内有瓷修复体作正畸治疗时，应根据烤瓷所在的前后牙位、正畸力大小及患者对美学要求的高低选用不同表面处理及粘结方法。