精磨表面粗糙度 不同磨抛方法对烤瓷表面粗糙度的影响

　　[摘要]目的：观察不同的磨抛程序和自上釉的陶瓷表面的粗糙度，为临床陶瓷修复体抛光提供可参考的依据。方法：按照不同的抛光程序进行分组，以自上釉组作为对照组。在抛光过程中以粗糙度测试仪测试抛光过程中陶瓷表面粗糙度变化并进行统计学分析。结果：经由粗到细的磨抛工具进行抛光后，陶瓷表面粗糙度均稳步下降，各组在使用ceramaster抛光头后表面粗糙度值趋于稳定，与其后使用抛光膏抛光后已无显著性差异(P>0．05)，凡是经Ceramaster及抛光膏抛光后的实验组陶瓷表面粗糙度与对照(上釉)组无显著差异(P>0．05)。结论：陶瓷使用由粗到细的抛光工具逐步抛光，可以使陶瓷表面粗糙度稳步下降，选用合适的抛光工具和合理的抛光程序可以简化抛光过程并使陶瓷表面达到上釉陶瓷表面的粗糙度。[关键词]表面粗糙度；抛光；齿科陶瓷
　　[中图分类号]R78 3[文献标识码]A [文章编号]1008―6455(2007)02―0237一04
　　陶瓷是制作冠、桥等修复体的理想材料，其生物相容性好，颜色美观，已为越来越多的患者所接受。陶瓷修复体在试戴过程中会进行必要的邻接、咬合、外形等调整，使得陶瓷表面变粗糙。粗糙的修复体表面对修复体本身及口腔环境都有一定的影响，可加剧菌斑附着，会引起对颌牙过度磨耗，以及影响瓷修复体的机械强度等。deJager等研究发现瓷样本的表面粗糙度值Ra越高，所测得的双轴挠曲强度值越低。Fischer H等也得出类似结果。以往上釉是去除瓷修复体粗糙表面的主要方法，但是上釉大大增加了患者的就诊时间，甚至需多次就诊，而且上釉可引起陶瓷修复体颜色及咬合的改变，多次烧结还会引起陶瓷材料强度的降低。为有效解决这些问题，许多陶瓷抛光工具及陶瓷抛光技术应运而生，然而使用这些抛光工具能不能得到上釉样的效果?如何抛光才能达到最佳效果?仍是临床医师最为关心的问题。自八十年代以来，有许多针对各种单独抛光工具抛光效果的研究，但对与磨抛过程中不同阶段如何选择，以及如何组合各种抛光工具达到最佳抛光结果的研究却鲜见报道。
　　
　　本研究通过对采用不同磨抛程序的陶瓷表面进行粗糙度测试，比较筛选出较为理想的抛光程序，以期为临床陶瓷修复体抛光提供参考的依据。
　　
　　1材料和方法
　　
　　1．1实验仪器及材料：平行研磨仪(FD－12－R－Sl，Swiss)，烤瓷炉(MultiMate 99DENTSPLY，USA)，TR240便携式表面粗糙度测试仪(北京时代集团)，试件制作所用瓷粉及磨抛工具见表1。
　　1、2实验方法
　　1．2．1试件制作及分组：采用Vita VMK95(A2色)体瓷粉制作盘状试件。在玻璃板上以蒸馏水调拌瓷粉，粉液比例以厂家提供标准为参考，充填湿瓷粉于直径11mm，高度3mm，内壁光滑的钢制模具内，充分振荡后，吸水纸吸去多余水分，成型，瓷胚放置于耐火纸上，按照厂家提供的烧结程序在烤瓷炉中烧结。烧结好的试件在平行研磨仪上，在注水条件下从粗到细依次抛光(240＃、400＃、600#)，每级目砂片抛光60s，消除前一张砂片的纹理。经每级目砂片抛光后，即对样本进行超声清洗l0min，吹干，按厂家提供的烧结程序进行自上釉，以备下一步实验使用。所有操作均由同一人完成。
　　将制作好的试件分为8组，每组10个试件，其中第8组为上釉组(对照)；第1组使用全部实验所选抛光工具由粗到细顺次抛光；第2、3组在第l组的基础上省略softcut抛光步骤；第4、5组在第1组的基础上省略白色砂石和相应的softcut PB，使用绿砂石磨光、softcut PA抛光后分别使用dedeco抛光粒和shofu抛光套装抛光；第6、7组在第1组的基础上省略绿色砂石和相应的softcutPA使用白色砂石磨光、softcut PB抛光后分别使用dedeco抛光粒和shofu抛光套装抛光，各组精细抛光均采用ceramaster和抛光膏顺次抛光，见表2。
　　抛光均使用厂家推荐最高转速及推荐压力。抛光材料使用前均用金刚砂调整石清洁修整，每一步抛光均抛至目测感觉光滑度不能提高为止，抛光均由一人完成。在每一步抛光后测试粗糙度，观察粗糙度变化和最终的抛光效果。
　　1．2．2表面粗糙度测试：对各步抛光的陶瓷试件的抛光面中心区域进行粗糙度测试。粗糙度仪取样长度设定为0．8mm，测定长度为4．Omm，测试方向垂直于试件的打磨方向。在试件表面3个不同方向取样测定，取均值记录。
　　
　　
　　2结果
　　
　　陶瓷试件经过各步抛光表面的粗糙度Ra值见表3及图1。经由粗到细的磨抛工具进行抛光后，陶瓷表面粗糙度Ra值均稳步下降，各组在使用Cera～Master抛光头后表面粗糙度Ra值趋于稳定，与其后使用抛光膏已无显著性差异(P>0．05)，在第1、3、4、6、7组经Cera~aster及抛光膏抛光后的陶瓷表面粗糙度与对照组无显著差异(P>O．05)。第2、5组最终抛光后的陶瓷表面粗糙度明显高于对照组(P